製品

説明

基礎情報

モデル番号。	FW-LN
モデル	1324
バッチ番号	ポリッシュ
マルケ	ファインウェン
成長方法	CZとFZ
オリエンテーション	111 または 100
抵抗	0,0005 ビス 150
表面	両面研磨または片面研磨
ドーパント	N型とP型
粒子	<30 bei 0,3 um
本	< 30 Ähm
テレビ	<15 Ähm
輸送パッケージ	木箱
仕様	個々のサイズ
商標	FWウエハー
起源	河南焦作
生産能力	100,000個/月

製品説明

カスタム単結晶シリコンウェーハ25.4*25.4*0.5mm Si 基板、オプションの片面研磨 N/P ウェーハ付き

1. 酸化シリコンウェーハとその応用例:
シリコン熱二酸化物ウェハとは、絶縁またはマスク材料として使用される、シリコンウェハの表面上の均一な誘電体膜の熱成長を指します。 酸化プロセスには、高温でのドライ酸素酸化と高温でのウェット酸素酸化が含まれます。

2.商品説明

商品名	CZおよびFZ研磨シリコンウェーハ
材料	ケイ素
直径	150mm
表面仕上げ	SSP
オリエンテーション	リクエストなし
卒業生	なし
タイプ	なし
抵抗	なし
厚さ	2500um

3. シリコンウェーハの作製
で成長しますシリコンのサイズ、品質、仕様などのさまざまな要因に応じて、このプロセスには 1 週間から 1 か月かかる場合があります。 すべての単結晶シリコン ウェーハの 75% 以上がチョクラルスキー法 (CZ) を使用して成長されています。

4.使用する設備

5. 仕様（弊社で供給可能な関連製品）

サファイア基板（Al2O3単結晶）

チタン酸ストロンチウム STO (SrTiO3) 結晶基板 (10mm x 5mm)

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